真空辅助薄膜技术产生具有特殊性质的薄膜表面。例如，它被用于美化高层建筑的玻璃和电子元件。

巨大的玻璃外墙是现代高层建筑的一大特色。其设计是为了让充足的阳光照入建筑物。但是，即使在阳光照射下，房间内也几乎不会变热。玻璃上的特殊涂层不仅允许光线进入，还可阻挡高能射线，同时抑制低温下的热损失。

纳米涂层

这些涂层通过溅射涂覆。这使得载体材料能够以金属、氧化物、氮化物和其他化合物层提供。这些化合物层的厚度在微米级，甚至纳米级。建筑玻璃使用氧化锡、金、银和铜材料来防晒和隔热。其他材料使制造超薄平板显示屏和触摸屏成为可能。

溅射在真空室内进行。涂层材料（目标）放置在待涂覆工件（基材）的对面。然后，室内被抽真空，并引入惰性气体——通常是氩气。同时，还要施加几百伏的高压。

原子"台球"

在高电压下，携带巨大能量的氩离子开始轰击目标。像台球一样，它们通过激波级联从涂层材料中释放原子。释放出的原子飞到基板上，在那里像凝结在浴室镜子上的水蒸气一样，形成一层薄薄的涂层。

利用磁控溅射中附加的磁场，可以更快地去除靶上的物质，加速涂覆过程。在溅射过程中，真空室的工作压力不超过0.1毫巴。以这种方式，"物质蒸汽"到达未经检查的基板，没有杂质。在这种条件下，即使在一米高的玻璃上，也会形成极薄、均匀，同时极其光滑、致密和粘附的涂层。