圣地亚哥，2018年8月27日电 /美通社/ - 用于半导体制造的准分子激光器的领先制造商Cymer今天宣布首次客户安装其XLR 860ix光源，预计将用于芯片生产在高级逻辑和内存节点。

XLR 860ix是一款基于氩氟化物准分子激光器的深紫外（DUV）光源。第一个客户安装在本月完成，XLR 860ix与ASML的最新光刻系统TWINSCAN NXT：2000i配对，该光源系统今年早些时候获得了资格。

“XLR 860ix通过改进高速控制和重新设计的板载带宽测量，与前一代产品相比，将带宽变化减少了两倍。这是一项重要成就，因为这些变化会导致关键尺寸误差（CD）均匀性反过来影响图像质量和最终制造产量。我们的客户使用XLR 860ix的早期版本验证了光谱稳定性的改善，这使我们相信这种光源将会有助于提高用于生产先进集成电路的CD均匀性，“Cymer产品营销副总裁Patrick O'Keeffe说。

在XLR860ix全面发布之前，Cymer通过升级现有光源，为早期访问计划的客户提供了关键技术。已经完成了四次这样的升级，计划在今年年底之前升级另外七个来源。共有七位客户参与了早期访问计划。为了满足客户的强烈需求，Cymer已迅速将其生产能力转移到XLR 860ix型号，用于所有未来的ArF沉浸式发货。

“除了早期访问计划，我们还提供了XLR 860ix的一项关键新技术，作为以前光源模型的升级。这种升级延长了光学器件和腔室的使用寿命，增加了时间间隔。维修间隔为33％，从而使我们的客户能够更好地利用他们的光刻系统，每年为每个工具提供数千个额外的晶圆。我们的客户积极利用这一升级，在过去一年内完成了400多次升级。大多数升级后的系统超出了目标服务间隔，“O'Keeffe说。