内容提纲
一、非晶硅薄膜太阳能电池结构、制造技术简介
二、非晶硅太阳能电池制造工艺
三、非晶硅电池封装工艺
一、
1、电池结构
分为：单结、双结、三结
2、制造技术
三种类型：
①单室，多片玻璃衬底制造技术
该技术主要以美国Chronar、APS、EPV公司为代表
②多室，双片（或多片）玻璃衬底制造技
该技术主要以日本KANEKA公司为代表
③卷绕柔性衬底制造技术（衬底：不锈钢、聚酰亚胺)
该技术主要以美国Uni-Solar公司为代表
所谓“单室，多片玻璃衬底制造技术”就是指在一个真空室内，完成P、I、N三层非晶硅的沉积方法。作为工业生产的设备，重 点考虑生产效率问题，因此，工业生产用的“单室，多片玻璃衬底制造技术”的非晶硅沉积，其配置可以由X个真空室组成（X为≥1的正整数），每个真空室可以 放Y个沉积夹具（Y为≥1的正整数），例如：
•1986年哈尔滨哈克公司、1988年深圳宇康公司从美国Chronar公司引进的内联式非 晶硅太阳能电池生产线中非晶硅沉积用6个真空室，每个真空室装1个分立夹具，每1个分立夹具装4片基片，即生产线一批次沉积6×1×4＝24片基片，每片 基片面积305mm×915mm。
•1990年美国APS公司生产线非晶硅沉积用1个真空室，该沉积室可装1个集成夹具，该集成夹具可装48片基片，即生产线一批次沉积1×48＝48片基片，每片基片面积760mm×1520mm。
•本世纪初我国天津津能公司、泰国曼谷太阳公司（BangKok Solar Corp）、泰国光伏公司（Thai Photovoltaic Ltd）、分别引进美国EPV技术生产线，非晶硅沉积也是1个真空室，真空室可装1个集成夹具，集成夹具可装48片基片，即生产线一批次沉积 1×48＝48片基片，每片基片面积635mm×1250mm。
•国内有许多国产化设备的生产厂家，每条生产线非晶硅沉积有只用1个真空室，真空室可装2个沉 积夹具，或3个沉积夹具，或4个沉积夹具；也有每条生产线非晶硅沉积有2个真空室或3个真空室，而每个真空室可装2个沉积夹具，或3个沉积夹具。总之目前 国内主要非晶硅电池生产线不管是进口还是国产均主要是用单室，多片玻璃衬底制造技术，下面就该技术的生产制造工艺作简单介绍。
二、
1、
下图是以美国Chronar公司技术为代表的内联式单结非晶硅电池内部结构示意图：
图1、内联式单结非晶硅电池内部结构示意图
生产制造工艺流程：
SnO2导电玻璃-SnO2膜切割-清洗-预热-a-Si沉积（PIN）-冷却-a-Si切割-掩膜镀铝-测试1-老化-测试2-UV保护层-封装-成品测试-分类包装
下图是以美国EPV公司技术为代表的内联式双结非晶硅电池内部结构示意图：
图2、内联式双结非晶硅电池内部结构示意图
它的生产制造工艺流程为：
SnO2导电玻璃-SnO2膜切割-清洗-预热-a-Si沉积（PIN/PIN）-冷却-a-Si切割-溅射镀铝-Al切割-测试1-老化-测试2-封装-成品测试-分类包装
2、
⑴SnO2透明导电玻璃（或AZO透明导电玻璃）
规格尺寸：305 mm×915 mm×3 mm、635 mm×1245 mm×3 等
•要求：方块电阻：6～8Ω/□、8～10Ω/□、10～12Ω/□、12～14Ω/□、14～16Ω/□等透过率：≥80％膜牢固、平整，玻璃4个角、8个棱磨光（目的是减少玻璃应力以及防止操作人员受伤）
⑵红激光刻划SnO2膜
根据生产线预定的线距，用红激光（波长1064nm）将SnO2导电膜刻划成相互独立的部分，目的是将整板分为若干块，作为若干个单体电池的电极。
•激光刻划时SnO2导电膜朝上（也可朝下）
•线距：单结电池一般是10mm或5mm，双结电池一般20mm
•刻线要求：
绝缘电阻≥2MΩ
线宽（光斑直经）＜100um
线速＞500mm/S
⑶清洗
将刻划好的SnO2导电玻璃进行自动清洗，确保SnO2导电膜的洁净。
⑷装基片
将清洗洁净的SnO2透明导电玻璃装入“沉积夹具”
基片数量：对于美国Chronar公司技术，每个沉积夹具装4片305 mm×915 mm×3 mm的基片，每批次（炉）产出6×4＝24片
对于美国EPV技术，每个沉积夹具装48片635 mm×1245 mm×3 mm的基片，即每批次（炉）产出1×48＝48片
⑸基片预热
将SnO2导电玻璃装入夹具后推入烘炉进行预热。
⑹a-Si沉积
基本预热后将其转移入PECVD沉积炉，进行PIN（或PIN/PIN）沉积。
•根据生产工艺要求控制：沉积炉真空度，沉积温度，各种工作气体流量，沉积压力，沉积时间，射频电源放电功率等工艺参数，确保非晶硅薄膜沉积质量。
沉积P、I、N层的工作气体P层：硅烷（SiH4）、硼烷（B2H6）、甲烷（CH4）、高纯氩（Ar）、高纯氢（H2）I层：硅烷（SiH4）、高纯氢（H2）N层：硅烷（SiH4）、磷烷（PH3）、高纯氩（Ar）、高纯氢（H2）
•各种工作气体配比有两种方法：第一种：P型混合气体，N型混合气体由国内专业特种气体厂家配制提供。第二种：PECVD系统在线根据工艺要求调节各种气体流量配制。
⑺冷却
a-
⑻绿激光刻划a-Si膜
根据生产预定的线宽以及与SnO2切割线的线间距，用绿激光（波长532nm）将a-Si膜刻划穿，目的是让背电极（金属铝）通过与前电极（SnO2导电膜）相联接，实现整板由若干个单体电池内部串联而成。#p#分页标题#e#
激光刻划时a-Si膜朝下刻划要求：
线宽（光斑直经）＜100um与SnO2刻划线的线距＜100um
直线度线速＞500mm/S
⑼镀铝
镀铝的目的是形成电池的背电极，它既是各单体电池的负极，又是各子电池串联的导电通道，它还能反射透过a-Si膜层的部分光线，以增加太阳能电池对光的吸收。
•镀铝有2种方法：一是蒸发镀铝：工艺简单，设备投入小，运行成本低，但膜层均匀性差，牢固度不好，掩膜效果难保证，操作多耗人工，仅适用小面积镀铝。二是磁控溅射镀铝：膜层均匀性好，牢固，质量保证，适应小面积镀铝，更适应大面积镀铝，但设备投资大，运行成本稍高。
•每节电池铝膜分隔有2种方法：一是掩膜法：仅适用于小面积蒸发镀铝二是绿激光刻划法：既适用于磁控溅射镀铝，也适用于蒸发镀铝。
⑽绿激光刻铝
（掩膜蒸发镀铝，没有该工序）对于蒸发镀铝，以及磁控镀铝要根据预定的线宽以及与a-Si切割线的线间距，用绿激光（波长532nm）将铝膜刻划成相互独立的部分，目的是将整个铝膜分成若干个单体电池的背电极，进而实现整板若干个电池的内部串联。
•激光刻划时铝膜朝下
•刻划要求：线宽（光斑直经）＜100um 与a-Si刻划线的线距＜100um
直线度线速＞500mm/S
⑾IV测试：
通过上述各道工序，非晶硅电池芯板已形成，需进行IV测试，以获得电池板的各个性能参数，通过对各参数的分析，来判断莫道工序是否出现问题，便于提高电池的质量。
⑿热老化：
将经IV测试合格的电池芯板置于热老化炉内，进行110℃/12h热老化，热老化的目的是使铝膜与非晶硅层结合得更加紧密，减小串联电阻，消除由于工作温度高所引起的电性能热衰减现象。
三、
薄膜非晶硅电池的封装方法多种多样，如何选择，是要根据其使用的区域，场合和具体要求而确定。不同的封装方法，其封装材料、制造工艺是不同的，相应的制造成本和售价也不同。下面介绍目前几种封装方法：
1、
适用：电池芯板储存制造工艺流程：电池芯板→覆涂UV胶→紫外光固→分类储存
2、
适用：小型太阳能应用产品，且应用产品上有对太阳能电池板进行密封保护，如风帽、收音机、草坪灯、庭院灯、工艺品、水泵、充电器、小型电源等
制造工艺流程：
电池芯板→贴PVC膜→切割→边缘处理→焊线→焊点保护→检测→包装
（注：边缘处理目的是防止短路，边缘处理的方法有化学腐蚀法、激光刻划法等）
3、
⑴电池/PVC膜
适用：一般太阳能应用产品，如应急灯，要求不高的小型户用电源（几十瓦以下）等
制造工艺流程：
电池芯板（或芯板切割→边缘处理）→贴PVC膜→焊线→焊点保护→检测→装边框（电池四周加套防震橡胶）→装插座→检测→包装
该方法制造的组件特点：制造工艺简单、成本低，但防水性、防腐性、可靠性差。
⑵电池/EVA/PET（或TPT）
适用：一般太阳能应用产品，如应急灯，户用发电系统等制造工艺流程：电池芯板（或芯板切割→边缘处理）→焊涂锡带→检测 →EVA/PET层压→检测→装边框（边框四周注电子硅胶）→装接线盒（或装插头）→连接线夹→检测→包装该方法制造的组件特点：防水性、防腐性、可靠性 好，成本高。
⑶电池/EVA/普通玻璃
适用：发电系统等
制造工艺流程：
电池芯板→电池四周喷砂或激光处理（10mm）→超声焊接→检测→层压（电池/EVA/经钻孔的普通玻璃）→装边框（或不装框）→装接线盒→连接线夹→检测→包装
该方法制造的组件特点：防水性、防腐性、可靠性好，成本高。
⑷钢化玻璃/EVA/电池/EVA/普通玻璃
适用：光伏发电站等
制造工艺流程：
电池芯板→电池四周喷砂或激光处理（10mm）→超声焊接→检测→层压（钢化玻璃/EVA/电池/EVA/经钻孔的普通玻璃）→装边框（或不装框）→装接线盒→连接线夹→检测→包装
该方法制造的组件特点：稳定性和可靠性好，具有抗冰雹、抗台风、抗水汽渗入、耐腐蚀、不漏电等优点，但造价高
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