摘要:LED的相关电路元件的加工与制作都是在晶圆上完成的,随着微电子技术的发展,对晶圆的切割技术要求越来越高,而在实际切割中,对晶圆的切割十分注重于晶圆的切割宽度,以降低晶圆损耗。研究355nm紫外激光切割设备的功率、频率以及切割速度对晶圆切割宽度的影响,从而达到高效率、小宽度、高标准的激光切割加工。
关键词:激光切割;脉冲频率;LED晶圆
1.引言
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆,在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.999%。
LED晶圆是LED的核心部分,LED 晶圆主要以蓝宝石、碳化硅等脆硬材料作为衬底。事实上,LED的波长、亮度、正向电压等主要光电参数基本上取决于晶圆材料。LED的相关电路元件的加工与制作都是在晶圆上完成的,这些脆硬材料的划切分离始终是LED 产业发展的主要制约环节之一,所以晶圆技术与其加工设备是晶圆制造技术的关键所在。
晶圆切割的传统方式是采用刀具切割,就是所谓的接触式加工,接触式加工,接触式加工极易使边缘破裂,交叉部分更为严重,导致成品率低,原材料的损耗大,有时还可能造成隐性裂纹从而影响电性参数。紫外激光切割设备加工式所谓的非接触式加工,新型紫外激光器的出现,成功地解决了这个难题。紫外激光指波长为100~400nm 的激光,它有两个非常好的特点:一是波长短,光子能量大;二是光束汇聚质量好。由于紫外激光波长短、能量集中,因此其加工半导体材料是直接破坏连接物质原子/分子的化学键,从而将物质分离成原子/分子的加工过程,选择合适的激光参数,激光加工过程中几乎不产生多余热量。该特性使紫外激光器成为加工蓝宝石等硬脆材料的理想工具。再加上紫外激光能被大多数材料有效吸收以及具有良好的聚焦性能,可在很小的空间区域内进行高精度微细加工,因此,紫外激光划切技术是目前划切以蓝宝石、氮化镓、碳化硅等硬脆材料为衬底的高亮度LED 晶圆的最有效方法之一,如(图1)。
图1 紫外激光划切蓝宝石基LED
2.测试原理,技术指标及光路系统
激光经过聚焦后照射到材料上,使被切割材料温度急速升高,然后使之熔化或汽化。随着激光与被切割材料的相对运动,在切割材料上形成切缝从而达到切割的目的。这里我们采用的是355nm紫外激光切割设备,由于紫外激光光束波长短,能量高且最终到达加工平面的激光光斑较小,所以被广泛的应用于精密加工行业。
该设备的主要技术指标如下表所示:
表1 设备主要技术指标
激光波长 |
355nm |
最大功率 |
10w |
振镜系统 |
50mm×50mm |
移动平台 |
600mm×600mm(可依据要求制定) |
振镜定位精度 |
±8um |
平台定位精度 |
±2um |
重复精度 |
±1um |
线宽 |
20um~60um |
生产环境 |
Class10000/23±3℃/<60%RH |
划线速度 |
1m/s (振镜极限速度10m/s) |
测试平台的光路系统
3. 测试结果与分析
在做晶圆测试之前要保证激光光路的同轴性较为良好,这是激光切割的前提,也是最关键的条件之一,由于激光设备最终的出光质量会直接影响到测试结果。聚焦光斑理论上是越小越好,光斑越小激光能量越集中,同样切缝的宽度也会越小,这样可以提高加工精度,我们公司紫外激光设备聚焦光斑通常在2~3s(1s=10um)范围内。在对蓝宝石晶圆切割测试过程中,采用控制变量法,通过改变紫外激光器的脉冲重复频率、振镜扫描速度以及切割重复次数得到了多组微槽。使用三次元显微镜仪器检测这些微槽,获得了不同参数下切槽深度图片。
3.1激光频率对测试的影响
通常情况下,激光器的重复频率选择50kHz,激光器的输出功率在10W以上,经过中间光学系统功率衰减微乎其微,最终自聚焦镜出来的光功率也会达到10W左右。在测试过程中设定激光重复频率为60kHz,振镜扫描速度为100mm/s,经过多次改变激光重复频率,同时保证振镜扫描速度、切割重复次数及其他切割参数不变的情况下,可以得出在一定范围内(50kHz~400kHz)随着激光重复频率的增加切槽的深度值会有相应的减小,即随着激光功率的增加,切槽深度值会变大。
图3 不同激光重复频率下晶圆的切槽情况
经过测量测试后的数据发现,当振镜扫描速度为100mm/s 时,脉冲重复频率由60kHz增加到100kHz,微槽深度减小了约0.54um,实验中发现当重复频率小于10 kHz时,切割时声音尖锐刺耳,切割深度较浅,切缝较宽,随着频率的增加,切割时声音变小,切割深度增加,切缝宽度也减小。当重复频率达到50 kHz时,切割深度达到最大。频率继续上升时,切割深度再次减小。这是因为在其他参数不变的情况下,重复频率越高,峰值功率越小,单脉冲与材料作用的时间越短,因此热影响区越小,切缝宽度也就越小。当重复频率较低时,虽然脉冲的峰值功率很高,但平均功率很低,所以造成了切缝较宽,切割深度却不大的现象。随着重复频率的上升,脉冲峰值功率降低,但平均功率增加,在一个适当的范围内,可以达到较小的切缝宽度和较大的切割深度。当重复频率继续上升时,虽然输出的平均功率增加,但是脉冲的峰值功率下降到不足以使晶圆气化,因此切割深度又变小。功率增大而振镜扫描速度不变,意味着激光作用于材料的时间一定但是能量不同,能量越高则切槽的深度越大。
3.2 振镜扫描速度对切割的影响
在激光频率一定的情况下,我们经过多次改变振镜扫描速度,观察晶圆的切槽深度(图4),经过测量得知,当脉冲重复频率为60KHz 时,速度由100mm/s 增加到150mm/s,微槽深度减小了约0.32um;速度由150mm/s 增加到200mm/s,微槽深度减小了约0.28um。
图4 从上至下依次是振镜扫描速度逐渐增大的切割效果
当激光频率及其他参数一定情况下,扫描速度增大意味着激光作用于晶圆上的时间减小,即作用在晶圆上的激光能量密度降低,故使得切割深度减小。
3.3 吸风、吹气装置对测试的影响
在用设备为样品做测试的过程中,吸风装置的上吸风主要是吸收掉在晶圆测试过程中产生的粉尘碎渣,下吸风为使得样品能够和平台紧密贴合做辅助,吸风装置一来使得晶圆在加工过程中不易产生废渣污染样品,二来使得晶圆能够很好地被固定在平台上,从而提高测试精度。吹气装置主要作用是冷却材料的表面温度,要采用不与硅材料发生化学反应的气体,该装置使得材料在被加工过程中不易被烧灼、碳化,进而影响最终测试后的材料的外观、尺寸。
4. 本文小结
通过工艺测试,初步研究了紫外激光在切割晶圆过程中,入射激光能量密度对切割质量的影响规律以及入射激光功率、激光脉冲重复频率、振镜扫描速度等参数对切割深度宽度的影响规律,并对测试结果进行了简单的阐述分析,结合理论解释了测试结果中出现的一些现象。
由于作者自身工艺经验不足和其他客观条件的限制,仍有许多工艺方面的问题需要进一步探索。就目前完成的工作来看,今后仍需在以下几方面努力:
(1) 紫外激光与材料的相互作用以及材料对紫外激光的吸收情况等。
(2) 设计对比测试方案,研究材料表面粗糙度或者材料成分影响切割质量的规律。
参考文献:
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[2] 燕来荣.LED照明:未来新光源.大众用电,2007:19-20
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