据了解,太赫兹辐射位于中红外和微波辐射之间,由于其单光子能量低和谱“指纹性”等独特优势,在材料科学、生物医疗和国防安全等领域具有重要应用。
然而,大能量太赫兹辐射源的缺乏是限制太赫兹科学和应用发展的关键瓶颈问题之一。有多种电子学和光学的方法可以获得太赫兹辐射,目前为止,公开报道的太赫兹脉冲能量均小于毫焦。
实验是在卢瑟福实验室的Vulcan激光装置进行的,实验方案由中方提出。利用皮秒超强激光装置,他们首先在固体薄膜靶中加速大量高能电子,之后,当电子从靶背面逃逸到真空时,通过渡越辐射,激发了高强度太赫兹辐射。实验表明,太赫兹脉冲能量高达50 mJ,这是迄今为止在实验室中获得的最高太赫兹能量。
相关研究结果近期发表在美国科学院院刊PNAS上。
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