光学掩模板_光学掩模板定制加工

    光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

    待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

    掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。

掩膜版的分类

透明基板

1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）苏打玻璃（Soda-lime Glass）低膨胀玻璃（Low Expansion Glass）

2、透明树脂

遮光膜

（1）硬质遮光膜：铬膜氧化铁硅化钼硅。

（2）乳胶。

材料厚度(公制):

0.03mm,0.05mm,0.08mm,0.06mm,0.1mm,0.12mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm

产品特点:

激光加工线条均均，无毛剌，无缺口

产品价格:

以材料材质、厚度、精度要求、量产数量综合核定

加工能力:可大批量加工

样品提供:

付费打样，样品3天内，最快24小时出样，量大可申请免费样品

梁经理