本次光博会，Newport（理波）公司展出了旗下一系列创新产品。MKS & Newport 运动控制产品高级研发经理Beda Espinoza先生在受访时向我们一一介绍道，“例如，我们在同期的Semicon china（中国半导体展）展台上带来了全新的工业级电动垂直位移台 IDL280-Z20，它适用于需要高负载能力的工业应用；而CeraMech碳化硅位移台则将创新的碳化硅材料作为平台基体，以较低的价格提供了气浮轴承平台所需的出众性能。这两款产品都是针对半导体或包括晶圆加工到激光微加工等在内的工业应用所设计。”他一一悉数。

 

而在光博会的主展位，Newport展出的是其最新的XPS-Dx通用型运动控制器。据 Espinoza先生介绍，该系列控制器具有更快的伺服响应速度，4轴位置同步，配有一款可实现1nm MIM最小位移增量的通用数字驱动器。“升级的版本在控制速度、精度和执行复杂运动控制方面有重大改进，同时更轻更紧凑。我们甚至可以降低这款控制器的价格，使其不仅在性能上能够很好地服务于市场，同时展现出更高的成本效益。”另外，他表示对于研究人员而言，中国正成为高级研发中心，Newport也已推出用于超快光谱领域的DL系列光纤延迟线，由此通过专门设计用于处理泵浦探测或多维光谱的延迟线加快了材料和工艺的研究进程。

 

 

Beda Espinoza，MKS & Newport 运动控制产品高级研发经理

 

另一款重要的产品是HXP200-MECA六轴并联定位系统，它能够提供六维自由度运动，负载能力50kg，特别适合于需要高负载、高精度能力和高复杂运动的校准、生产和测试等应用领域。“与HXP系列搭配的还包括我们最新的HXP仿真软件V1.1，该仿真软件可以向用户指示在操作HXP并联定位系统时是否会发生碰撞，具体通过在HXP使用的模拟环境中创建或上传三维物体，并相应模拟位置以及验证碰撞可能性。”他补充道。

 

在Espinoza先生看来，未来中国市场的规模和潜力将继续增长，而Newport也将不断为中国市场推出更多量身定制的产品。“我觉得激光和半导体等行业对光电产品的需求正在加速释放，我们将顺势而为。例如，随着越来越多的应用领域被开发出来，我们的IDL系列直线位移台的需求将持续上升，这些应用主要包括空气净化、非接触式组件以及硬性覆盖物等。”

 

同时，Espinoza先生表示，自2016年Newport集团被万机仪器(MKS Instruments)收购以来，两家公司之间的协同效应不断加深。“结合MKS全球领先的真空和控制解决方案与Newport的光源、光电仪器、激光器、光学平台、运动控制、光学机械构件、光学元件、光分析与测量等门类齐全的光电科技产品，这种强强联手的优势使我们能够以最快的速度和最优的品质向市场源源不断推出引领科技前沿的光电技术、产品和解决方案，并且能够满足各个终端应用领域的独特需求。”

 

最后，Espinoza先生透露，Newport公司近两年也将会有扩张计划，虽然具体细节目前还无法透露，但有理由相信，求新求变，不断冲击光电领域的至高点定是公司的核心目标。