9月9日，德国联邦总统办公室在慕尼黑德意志博物馆荣誉殿堂宣布了2020年德国未来奖提名人。联邦总统技术与创新奖最后一轮项目是通快、蔡司和弗劳恩霍夫应用光学与精密机械研究所的专家团队的项目“EUV光刻-数字时代的新光”。

世界上唯一的EUV光刻机制造商是荷兰ASML公司，该公司作为集成商设计了整个系统的体系结构，尤其是EUV源。这些机器的关键部件是通快的EUV光源高性能激光器和蔡司的光学系统。EUV代表“极紫外线”，即具有极短波长的光。借助这项技术，可以生产出比以往任何时候都更强大、更节能和更具成本效益的微芯片。如果不继续保持强劲的计算能力，就不会成功实现数字化。最新一代芯片的制造过程是基于EUV灯的使用，它克服了以前在技术上可行的限制。从光源到真空中的光学系统再到所用反射镜的表面涂层，实际上，整个曝光技术都必须从头开始开发。

来自三家机构的三名候选人为EUV技术的开发和工业批量生产做出了重大贡献，获得了2000多项专利保护的未来技术。

通快副总裁兼首席技术官Peter Leibinger：“对于德国未来奖的提名，我们感到非常高兴。这再次证实了EUV技术的全球潜力。得益于与蔡司、弗劳恩霍夫和荷兰技术集团ASML的合作，我们得以在这项未来技术上与来自日本和美国的德国和欧洲竞争对手竞争。世界上最好的制造微芯片的机器来自欧洲，这是我们共同撰写的非凡故事。这种独特合作成功的关键是相互信任和毅力。”

借助世界上最强大的脉冲工业激光器，通快为每个现代智能手机中使用的最现代微芯片的曝光提供了关键组件。除了产生雷射平版印刷术所需的光之外，没有其他经济的替代方法。Leibinger：“只有通快可以制造EUV光刻所需的激光器。没有这些激光器，诸如人工智能或自动驾驶之类的未来技术将无法实现，因为它们需要大量的计算能力。激光60周年的德国未来奖提名再次强调了这种工具对于德国作为工业基地的重要性。”

“与我们的合作伙伴一起，我们对提名感到非常高兴，该提名表彰了一项极其复杂的开发工作，并将其转化为主导世界市场的技术。” 蔡司集团执行董事会成员兼半导体制造技术部门负责人Markus Weber说，“蔡司代表最高的光学性能和精度。这在芯片生产中一直很重要。EUV技术及其在真空中操作的反射镜光学器件是一项飞跃性的创新，需要同等的创造力和持久性，才能从构思到今天的系列使用。照明系统的质量和形状以及投影光学系统的分辨率决定了微芯片上的微小结构。EUV继续推动商业和社会数字化领域的巨大进步。”

由于即使最小的不规则性也会导致图像错误，弗劳恩霍夫（Fraunhofer）是镜子精密镀膜技术的重要研究伙伴，为EUV光刻技术开发了世界上“最精确”的反射镜。“Fraunhofer是半导体技术的先驱之一。我们在我们的研究所和设施中研究EUV光刻技术已有三十年了”。Fraunhofer-Gesellschaft总裁Reimund Neugebauer教授解释说，“我们的研究人员在首批EUV反射镜和光束源的开发中发挥了关键作用，从而为该技术的突破奠定了基础。由于科学与工业之间的长期紧密合作，现已在全球范围内实现了在这一创新领域的广泛应用的飞跃。EUV光刻技术是通过合作、研究精神和可持续承诺实现技术和经济附加值的杰出例子。”

自1997年以来，每年都会颁发“德国未来奖”，这是德国最重要的科学奖项之一。它表彰可产生现成产品的杰出技术、工程和科学成就。在一个多阶段的过程中，德国未来奖的顶级评审团从众多项目中选出了三个研究团队及其创新，以作为最后一轮“最佳圈子”奖。除创新表现外，评审团还评估发展的经济和社会潜力。

关键词：德国未来奖;通快;弗劳恩霍夫

原文链接：https://www.fraunhofer.de/de/presse/presseinformationen/2020/september/deutscher-zukunftspreis-euv.html