如果真空紫外激光可以聚焦成一个小束点，将可用于研究介观材料和结构，并使制造纳米物体具有更加的精度。

　　为了实现这一目标，中国科学家发明了一种177纳米的VUV激光系统，可以在长焦距处获得亚微米焦点。该系统可以重新配置用于低成本的角度分辨光电发射光谱，并可能推动凝聚态物理研究。

　　在《光科学与应用》(LightScience&Applications)发表的一项研究成果显示，研究人员利用无球像差的带板开发了一种177nmVUV激光扫描光电发射显微镜系统，该系统在长焦距(——45mm)下具有<1μm的焦斑。

　　基于这种显微镜，他们还建立了一个离轴荧光检测平台，在揭示材料的细微特征方面表现出优于传统激光系统的能力。

　　与目前用于ARPES的具有空间分辨率的DUV激光源相比，177nmVUV激光源可以帮助ARPES测量覆盖更大的动量空间，具有更好的能量分辨率。

　　该VUV激光系统具有超长焦距(——45mm)、亚微米空间分辨率(——760nm)、超高能量分辨率(——0.3meV)和超高亮度(——355MWm-2)。可直接应用于光电发射电子显微镜(PEEM)、角度分辨光电子能谱仪(ARPES)、深紫外激光拉曼能谱仪等科研仪器。

　　目前，该系统已与上海理工大学的ARPES连接，揭示了各种新型量子材料的精细能带特征，如准一维拓扑超导体TaSe3、磁性拓扑绝缘体(MnBi2Te4)(Bi2Te3)m族等。