近些年，随着5G、物联网时代的开启，全球半导体产业再度迎来了一波高速发展期。

要想占据5G和物联网的制高点，那么首要解决的就是芯片问题。而要造出高端的芯片，得先解决光刻机难题。

世人皆知，全球知名的光刻机公司是在荷兰。由于在美国的禁令之下，短期内，我们无法获得荷兰的高端光刻机。

那么问题来了，即便眼下处于困境之中，国内的一众科技公司依然在全力发展半导体产业，这是国人们看到了高端科技自主化的曙光！

此前有媒体爆料，中科院已成功推出了5nm光刻技术。为此获得了网友们的一致好评

春公子发现，很多网友都认为中科院推出的5nm光刻技术一出来，那么高端光刻机的问题就会“迎刃而解”？其实不然。

首先，光刻和光刻机肯定不会是一回事，光刻只是一项技术，而光刻机是一项成熟的产品。

《财经》新媒体采访了论文的通讯作者刘前后作了报道，刘前强调：“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片是个误读”。

但是，中科院的这项5nm激光光刻研究是很激动人心的，毕竟这是属于我国的技术。

另外，这次的研究使用的设备是我国独立开发的，就是说有自主专利，将来如果试产成功，那么就不再受制于其他的国家了。

但有必要一说的是，荷兰ASML的光刻机技术，可以说是全球最先进的水平，也是之前投入了大量的资金研发得来的成果，在这个领域，中国与它之间，还有很远的距离，所以，规划的时间也是2030年，也就是10年后。

我们得知道ASML的成功，不仅仅是因为光刻机技术，而是全球化大生产的结果，在光刻机的80000个零部件中，荷兰的ASML光刻机是有多国技术的综合体，例如德国提供了特别先进的机械工艺，还有世界级的蔡司镜头。美国提供了光源，正是来自先进技术的提供，使得ASML公司在光科技术方面突飞猛进的发展！

春公子和大家一样，非常期望看到早日能解决光刻机的问题。但我们也需要更冷静，更理智的思考。

目前高端芯片从研发出来，到保证优良率，再到量产都是需要较长时间的。所以在一定的时间内还是需要依靠荷兰的ASML光刻机。

真的要实现芯片技术「弯道超车」，就必须继续重视芯片领域，做好产学研结合，加大产业化环境建设，提高科研人员待遇。不知道诸位怎么看？