磁控溅射镀膜机是一种普适镀膜机,用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。
磁控溅射镀膜机镀膜原理为磁控溅射,相对化学镀膜方式,其优点为膜层附着力更强,焊接后拉力测试大于10N;均匀性更好;化学镀膜在60倍显微镜下可看到明显的针孔、凸起,而磁控溅射没有针孔和凸起。 磁控溅射镀膜方式因生产产品过程中始终保持真空,因此无二次污染。下图为设备实物图。 (磁控溅射镀膜机) 除了以上优点,磁控溅射镀膜机单纯镀金产能为4万+根/月,且镀膜种类多,含盖所有金属,典型镀层有Cr、Ti、Ni、Au。也可以进行混合镀膜,比如Ni和Au混合、Ti和Au和Cr混合。 磁控溅射镀膜机的优势明显,一直以高功率及保偏器件为产品生产研发导向的光越科技(深圳)有限公司近期引进磁控溅射镀膜机并且经过研发人员的不断验证,完成高精度研磨机项目,磁控溅射镀金系列产品也正式投入生产,产品系列如下: 金属薄膜质量优 ,耐腐蚀性强; 镀金薄膜均匀性致密,膜层光滑密实,显微镜下观察无针孔; 高牢固度附着力(优于蒸发机),与基片结合度高,镀膜控制精准; 镀膜有效面积:50x50mm ,金靶纯度99.99%。 (空气入射5°反射率曲线,测试波段中远红外2000-25000nm) (空气入射5°金反射率测试曲线,测试波段400-2500nm) (空气入射45°光谱曲线,测量波段400-2500nm) 金+保护膜(400-20000nm) (金+保护膜2000-20000nm) 金属化蓝宝石窗口片是使用铬、镍、金镀于蓝宝石窗口片边缘制作而成的新型窗口片,金属膜边缘可直接焊接或连接到光学机械装配上,达到密封效果。 应用:光通讯、激光窗口、红外成像系统、医疗设备等。 优势:符合MIL-STD-883可焊性标准;金属化材料可定制:Cr、Ti、Ni、Au等。 应用:非制冷红外探测器 优势:根据客户定制镀金处理Si基片,Ge基片;1~6.8μm透过率小,同时7.5~14μm的透过率高;可镀制金属化薄膜用于焊接。 斜面、微透镜、楔形光纤所用的设备为完全自主研发,设备可依据产品结构不同而进行修改。可生产多种要求的光纤。 使用该设备加工出的光纤精度高,角度误差在1°内,尺寸误差控制在1微米内,端面质量好,在400倍端检仪下观察无可见划痕、麻点。 透镜光纤性能对比 参数 光越 市面出售产品 锥角误差 ±2.5° ±5° 角度误差 ±2.5° ±5° 曲率误差 ±1um ±1um 偏心量 ±1um ±1.5um 镀层拉力 ≥15N ≥10N 镀金光纤性能对比 性能 光越 市面出售产品 镀层拉力 ≥15N ≥10N 膜层厚度 约300nm 100~1000nm 单炉装载量 672根/炉 350根/炉 单炉时间 2H/炉 5H/炉 备注: 锥角误差主要是指微透镜光纤的圆锥夹角,对于单模,其精度越高,加工曲率的良率就越高。对于多模光纤,锥度的精度越高其耦合效率一致性更好。 角度误差主要是指楔形透镜光纤的夹角,对于其精度越高,加工的曲率的良率就越高。对于多模光纤,锥度的精度越高其耦合效率一致性更好。 曲率精度越高,耦合效率越高。 偏心量越小,透镜光纤的光轴与光纤包层轴线的夹角越小,从而方便耦合调试,提高生产效率。 大拉力可以降低产品使用不当导致的坏损率,对使用环境适应性更强。 行业的快速发展,产品迭代的速度也越来越快,而光越科技也将保持初心,主攻高功率及保偏器件市场,探索市场动向,为客户提供更符合市场需求的产品。
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