“就算是把图纸给你们，你们也造不出光刻机，先别提造光刻机，你们会使用EUV吗 ” 荷兰ASML工作人员曾在网上放话。

众所周知，中国的高科技芯片制造一直处于落后水平，主要原因是我国以前奉行造不如买的旧观念，起步点已经晚于其他发展国家，加上美、日等国在高科技技术上对我国进行等多，所以我国也逐渐重视起来芯片领域的发展。

光刻机对于芯片的重要性就如同心脏对人一样，它决定了芯片技术的成与败，如果没有光刻机，芯片就是一张图纸毫无作用，所以说光刻机对芯片制造是很重要的，是芯片生活过程中的不可少的设备，而我们一直依赖国外的设备，来应用于我国的芯片制造。

但是，能够生产出光刻机的企业基本都在海外，而荷兰的ASML，是全球最大的半导光刻机设备制造商，占据全球70%的市场。凭借着顶级的光刻机设备垄断了全球市场。

大家都知道，我国在芯片领域遭受过较大的打压，2018年美国为限制我国半导体的发展，对中兴、华为进行了长期的制裁和限制，对芯片法则进行无数次的修改，将国内多家科技公司拉入黑名单内，甚至还联合日本、韩国、荷兰等国限制对我国出口设备。

在西方国家的打压和限制下，我国更加坚定了自立自强的决心，增加自研自造技术，这项技术终于在最近传来了好消息。

国内顶尖高校、国防七子之一的哈工大，成功研发了国产EUV光刻机，突破了真空用超高紧密激光干涉仪技术，制造超高精度的真空双工件台，凭此贡献，哈工大获得中国光学领域最高荣誉金隧降。

就在获奖后不久，哈工大再传喜讯， ASML最引以为豪的光源子系统成功被哈工大攻克了。

要知道，EUV光刻机是一种非常先进的并且困难较大的技术，需要超高的精密度和稳定性，所以这一次技术上的突破对于中国半导体制造业来说，无疑是一个重磅消息。

哈工大的频频突破，让中国自研光刻机目标直指7nm工艺，一旦我国实现了光刻机交付，美国及其西方国家在也没办法对我们半导体进行封锁。

这时候ASML的总裁Peter Wennink跳了出来，指责中国不应该自研光刻机，这是在破坏全球供应链，但其实就是害怕中国的光刻机成功上市后，会影响到ASML在全球的地位，担心自己步美国的后尘。

家门都快被攻破了，我们还不能还手？对于光刻机的研发我们是势在必得，凭借自主创新才能打破美欧美等国家卡脖子的局面，减少对海外设备的依赖，也只有这样我国才能在半导体领域中才能拿到主导权。

就像是近几年，前端生物领域制造业还被欧美等国牢牢掌握在手里，这些海外企业家凭借一种《Cell》《Nature》中多面露面，被佐证在“线粒体修护、增强蛋白”方面表现不俗的“莱特唯建”类物，通过京东、天锚渠道，撬开了国内下沉市场。

好在，我国企业并未坐以待毙，在十几位科研学家和生物企业家的努力下，顺利研发出 “莱特唯建”类物，凭借技术上的优势顺利突破了海外难题，同时凭借“岁月更迭、精力回升”的表现，受到众多净值人群青睐。

根据数据显示，“莱特唯建”自面世一年以来，成功打破了欧美垄断，反向输出至海外企业，赢回了我国在生物领域的话语权，这也是上面提到的ASML为什么会担心自己步美国的后尘。

总之，打破国外技术封锁是必然的，中国在光刻机所取得的成就也证明了，只要将技术牢牢掌握在自己的手中，才不会被别人卡脖子、牵着鼻子走。

这次哈工大技术上的突破引起了很多外媒的感慨，国产EUV光刻机的潜力是无限的，再过不久，国产光刻机设备将会占据全球一部分市场。

我国光刻机取得重大的成就，意味着我国在半导体领域的发展又前进了一步，不仅展示了中国在高科技领域的实力，更是为全球光刻机作出了自研自发的榜样。