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镀膜

中频磁控+多弧离子溅射镀膜机

星之球科技 来源:华宇电镀设备有限公司2011-07-28 我要评论(0 )   

中频磁控+多弧离子溅射镀膜机 该设备具有:结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于切削刀具如...

中频磁控+多弧离子溅射镀膜机

该设备具有:结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于切削刀具如齿轮滚刀,插刀,铣刀,钻头等表面沉积超硬涂层,也可用于钟表,眼镜架,手机壳、锁具,洁具等各类小五金表面沉积装饰涂层,本设备可实现一机多用沉积多种膜层,膜层细腻,有纯钛( Ti ) 氮化钛( TiN ) 氧化钛( TiO ) 纯锆( Zr ) 氮化锆( ZrN ) 碳化钛( TiC ) 纯铬( Cr ) 氮化铬( CrN ) 碳氮化钛( TiCN ) 氮化铝钛( TiAlN ), PVD 镀膜膜层目前常见的颜色主要有: 深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色, 蓝色等。亮度好,饱满度好
本公司可以根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

参数说明:

型号

HY-1200

HY-1400

HY-1600

HY-1800

真空室尺寸

Φ 1200Χ1600mm

Φ 1200Χ2000mm

Φ 1600Χ2000 mm

Φ 1800Χ2000 mm

 

 

电源类型

高频逆变弧电源,大功率中频电源

真空室结构

立式单开门、后置抽气系统

极限真空

6.0Χ10-4pa

真空系统

扩散泵 +罗茨泵+机械泵+维持泵

抽气时间

从大气抽至 5Χ10-2Pa小于或者等于5分钟

工件运动方式

公自转 /变频调速

控制方式

手动 /自动一体化式,触摸屏+PLC

备注

真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做

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