日本半导体曝光设备用光源领域的大型厂商Gigaphoton称其EUV光源扫描仪实现了连续运行和稳定发射：激光驱动等离子光源原型实现了输出达108W，平均能量稳定性为0.5%的结果。
Gigaphoton副总裁兼首席技术官Hakaru Mizoguchi表示：“我们成功研发出持续运作24小时、输出达108W的EUV光源扫描仪，说明了我们正在接近完成低成本、高输出稳定运行的EUV光源的研发；而这也正是半导体厂商所需要的。”
这一成果建立在一些关键技术基础上：例如能生成直径为20微米或更小锡滴的液滴生成器、固态预脉冲及主脉冲CO2激光器以及采用磁场与能量控制技术的碎片减缓技术等。
位于日本筑波的超紫外光刻基础设施研发中心（EIDEC）也在使用Gigaphoton公司的EUV光源。
Gigaphoton公司计划在2015年底研发出250W级别高输出实验装置，这也是内存储设备量产所需的技术。
Mizoguchi表示：“我可以肯定的是当我们将该技术推向市场的时候，也就是下一代曝光技术出现的时候；同时我也相信将极大地改善半导体的性能，并作为支持信息技术的核心技术为行业的发展带来划时代的贡献。”
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