阅读 | 订阅
阅读 | 订阅
电子加工新闻

东京大学与英特尔共同研究光电子融合技术

激光制造商情 来源:广东星之球2010-12-27 我要评论(0 )   

东京大学纳米量子信息电子技术研究机构宣布,已于 2010 年 12 月开始与美国英特尔就 LSI 间的光连接技术进行共同研究。 双方共同研究的是 LSI 间光连接中使用的被称为光...

东京大学纳米量子信息电子技术研究机构宣布,已于201012月开始与美国英特尔就LSI间的光连接技术进行共同研究。

双方共同研究的是LSI间光连接中使用的被称为“光电子融合技术”的领域。其中,正大力开发作为LSI内光源的硅芯片上的量子点激光。

共同研究的时间为三年。东京大学纳米量子信息电子技术研究机构将从英特尔手中获得总额为50万美元的研究经费。据该机构介绍,现已接受了142000美元作为第一年的研究经费。

研究成果将公开

虽然接受了英特尔的资金援助,但研究成果会向社会公开,而不会由英特尔垄断。该机构负责人、东京大学教授荒川泰彦解释说,“如果取得重大研究成果的话,我们有可能会取得专利,但届时不会只向英特尔提供授权。对于英特尔,只要在论文中向其致谢即可”。

 

 

转载请注明出处。

暂无关键词
免责声明

① 凡本网未注明其他出处的作品,版权均属于激光制造网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。获本网授权使用作品的,应在授权范围内使 用,并注明"来源:激光制造网”。违反上述声明者,本网将追究其相关责任。
② 凡本网注明其他来源的作品及图片,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本媒赞同其观点和对其真实性负责,版权归原作者所有,如有侵权请联系我们删除。
③ 任何单位或个人认为本网内容可能涉嫌侵犯其合法权益,请及时向本网提出书面权利通知,并提供身份证明、权属证明、具体链接(URL)及详细侵权情况证明。本网在收到上述法律文件后,将会依法尽快移除相关涉嫌侵权的内容。

网友点评
0相关评论
精彩导读