中科院上海光学紧密机器研究所周常河研究员课题构成功研制出多路激光直写装配。该装配采纳405nm的蓝光激光光源，僧康0.9数值孔径的透镜，和主动聚焦体系，完成了25路高精度并行激光直写，刻写光斑的线宽小于600nm。比拟于传统激光直写体系，该装配在刻写速率和服从方面有了很大的进步，几十倍地收缩了激光直写时间，可以疾速建造大尺寸、高精度衍射光学元件。

　　激光束直写技能是一种无需掩膜的光刻技能，根本事情道理是由计较机节制高精度激光束或样品扫描，在光刻胶上或光敏质料上刻写出掩膜图形。传统的激光直写装配因为受单路激光刻写的限定，服从低，时间长，只能利用于中、小尺寸光学器件的出产和制备。该装配的乐成研制，有大概为中国的半导体系体例造及大尺寸微纳光学加工范畴供给一种高机能、低本钱的技能手段，同时，也将鞭策我国在纳米光刻，微纳光学制作等范畴的进步，对付研制我国大迷信工程、装配和地理、航天、航空、印刷等行业所必要的大尺寸光学元件，起到踊跃的鞭策感化。