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太阳能工艺

晶硅太阳能电池激光刻槽设备

星之球科技 来源: 新浪财经2012-11-01 我要评论(0 )   

晶硅太阳能电池激光刻槽设备 刻线线宽: 12-30m,3m 刻线深度: 2-5m,2m 刻线速度: 可调,最大4s/片 直线度: 20m 工作台重复定位精度:10m 额定输入电压: 三相380VA...

    
     晶硅太阳能电池激光刻槽设备
 

 

刻线线宽:          12-30μm,±3μm

刻线深度:          2-5μm,±2μm

刻线速度:          可调,最大4s/片

直线度:            ±20μm

工作台重复定位精度:±10μm

额定输入电压:      三相380VAC,50Hz/60Hz,带保护地线

冷却方式:          水冷

加工范围:          125×125mm、156×156mm

 

应用领域:

专用于晶硅太阳能电池选择性扩散

  

设备特征:

六工位全自动工作平台,加工速度快

操作简单,维修费用低

软件自动控制

性价比高

 

样品展示:

 

 

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